中国科学家辞去日本著名芯片研究所职位、带整建制团队回国。
5月20日，一则来自科技领域的独家消息在业界引发关注。
中国科学家达博正式辞去日本国立材料科学研究所（NIMS）的永久研究职位，带领一支由多名独立科研骨干组成的团队回国，受聘于母校中国科学技术大学工程科学学院，担任讲席教授。
这不是一次普通的学术跳槽。
NIMS是日本最顶尖的材料科学研究机构之一，拥有超过65年历史，在全球材料科学领域举足轻重。
达博在这里拿到的是永久职位——相当于终身教职，是海外科研人员极难获得的稳定身份。
他放弃的，远不止一个头衔。
在NIMS期间，达博长期主导先进半导体制程中刻蚀设备、电子束量检测设备的关键材料与核心部件研发。
他是美国泛林集团（Lam Research）与NIMS联合研发项目的负责人，这个项目直接对标台积电3纳米量产产线，攻关刻蚀设备中与等离子体接触的关键材料。
泛林集团是全球半导体设备行业的巨头，和达博有多年深度合作关系，此前已多次向他提供无偿科研捐赠支持。
今年4月27日，得知达博决意辞职后，泛林方面再次开出无偿捐赠条件，希望他能留下来继续推进合作研究。
与此同时，多家海外企业也向他抛出了优厚的合作方案。
他全部拒绝了。
在日本学术界，达博的分量同样不轻。
日本电子束领域的泰斗级人物、大阪大学名誉教授志水隆一，对达博高度认可，将他视为自己学术体系的传承接班人。
2026年，达博受邀成为日立财团仓田奖励金唯一外籍受访学者，接受官方视频专访并获重点推介。这个奖项创办于1967年，门槛极高，受邀参与官方专访者少之又少。
达博的核心学术贡献是在电子光学领域开辟了一个全新分支——衍射电子光学。
传统电子束设备对电子的聚焦依赖电磁场，而他的方法利用晶体材料的衍射效应来约束电子方向，理论上可以将并行电子束曝光设备的效率提高数万倍甚至十万倍。
如果这条路走通，未来并行电子束曝光技术的效率有望超越现有的极紫外光刻（EUV），足以改变半导体行业的技术格局。
他为什么选择此刻回来？
达博自己说得很清楚：当半导体制程逼近亚纳米尺度，决定胜负的不再只是设备的设计与集成，而是设备底层那些更难被看见的材料与部件能力。
这正是中国半导体产业链上最薄弱的一环。
国内在刻蚀设备领域已经有了中微半导体、北方华创等企业的不俗进展，但底层关键材料和核心部件仍然存在短板。
至于高端电子束量检测设备，国产化整机能力基本还是空白。
国内头部半导体设备企业的核心负责人曾劝达博回国时说过一句话：哪怕只是方向性的行业信息，都可能帮国内省下几百万甚至几千万的研发成本——就像魔方，知道解法和盲目探索之间，差距是巨大的。
达博的回国不是孤身一人。
从2016年开始，他就有意识地在NIMS组建团队，通过人才引进的方式把同门师兄弟陆续聚拢到一起。多年的协作让这支队伍建立了深厚的默契和明确的方向。
这一次，他带的是整建制团队。
家庭因素也是推动他下定决心的原因之一。孩子今年8岁，在日本长大，与中国文化的联结始终有限。他开始认真考虑一件事：让孩子在更深厚的中国文化土壤中长大。
达博说过一句话，很朴素，也很重："如果能把中国的半导体装备材料和部件做到与国际相当的水平，我觉得这辈子的奋斗就值了。"
半导体竞争走到今天这一步，拼的早就不只是光刻机和芯片设计了。
那些藏在设备最深处的材料和部件——一块耐等离子体腐蚀的陶瓷内衬、一根精度达到原子级别的电子束聚焦组件——这些不起眼的东西，才是真正决定一台设备能不能用、好不好用的关键。
一个在日本顶级研究所拿着终身职位的中国科学家，泛林集团追着捐钱都留不住，连日本学术界认定的"接班人"身份都放弃了，带着一整支团队回来——这件事本身，就是对当下中国半导体产业最有力的一次投票。
参考信息：DeepTech深科技·独家丨他辞去终身职位、带团队回国，要攻下半导体最卡脖子的环节·2026年5月20日
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